Reinraumtechnik

Der Lehrstuhl verfügt seit seiner Gründung über einen Reinraum der Klasse 1000. Dieser wird insbesondere genutzt um Sensorelemente und Mikrosysteme auf Basis der Dünnschichttechnologie, besonders mit piezoelektrischen Werkstoffen (Surface-Acoustic-Wave-[SAW-]Technologie) herzustellen. Die Ausstattung umfasst:

Dünnschichttechnikum

• Schichtabscheidung (additive Techniken)
  • Thermisches Aufdampfen
  • Elektronenstrahlverdampfen
  • Ionenstrahlbeschichten
• Schichtenstrukturierung
  • Waferreinigung (Nassbank mit Ultraschallbad, Rinser Dryer)
  • Kontakt- oder Abstandslithographie für Strukturen bis herab zu 2 µm (Mask Aligner des Lehrstuhls für Funktionsmaterialien)
  • Elektronenstrahl-Lithographie für Strukturen bis unter 100 nm (Nanotechnologie)
• Schichtentfernung, Ätzen (subtraktive Techniken)
  • Nassätzen
  • Ionenstrahlätzen
• Thermische Behandlung
  • Oxidation
    
  • Pre-, Postbake
    

Neben dem eigentlichen Reinraum verfügt der Lehrstuhl über diverse Austattungen und Know-How zur Weiterverarbeitung und zur Prüfung von im Reinraum produzierten Bauteilen.

Aufbau- und Verbindungstechnik

• Wafersäge
  
• Gold-Dünndrahtbonder (Ball-Wedge)
  

Nichtelektrische Prüfung

• Lichtmikroskopie bis 5000-fache Vergrößerung mit digitaler Bildverarbeitung
  • Bildzusammensetzung (Stichting)
  • 3D-Betrachtung (und Tiefenschärfezusammensetzung)
    
  • Hoher Dynamikbereich (HDR)
• Rasterkraftmikroskop (AFM)
  
• Klimakammer für Umweltverträglichkeitstests
• Gasmischanlagen, Öfen
  

Elektrische Prüfung

• Laserakustikmessplatz zur Charakterisierung von Dünnschichten